半導体ブームが到来しているようですが、弊社もその波になる為にも少し情報を開示させてください。
効果的な洗浄を行うために重要なのは、スプレーノズルの選択方法です。
一般的には以下のような特性を持つノズルが選定されます。

均一なスプレー分布:
ノズルから噴出される液体が基板の表面に均一に広がることが重要です。
これにより全体的な洗浄効果が高まります。

適切な噴霧パターン:
スプレーパターンは洗浄する表面の形状やサイズに適合する必要があります。
一般的な噴霧パターンは、円形（ホロコーン）、扇形（フラット）などがあります。

適切なスプレー角度と圧力:
洗浄に最適な角度と圧力を提供するノズルを選択することが重要です。
これにより洗浄剤が基板の表面に十分に到達し汚れを効果的に除去します。

耐腐食性:
洗浄に使用される化学物質に対して耐性がある材料で作られたノズルを選択することが重要です。
これによりノズルが長期間にわたって効果的に機能し続けます。

簡単な清掃と交換:
ノズルは定期的に清掃や交換が必要な場合があります。
したがって取り外しや清掃が容易なデザインのノズルが選択されることがあります。

これらの特性を考慮して、洗浄プロセスに適したノズルを選択することが重要です。
また、具体的な洗浄条件や要件に応じてノズルのタイプや仕様が選択されることもあります。

少々前置きが長くなりましたが、レヒラー社（ドイツ）は約45000種類のスプレーノズルを世界各国に提供しています。

レヒラー社製PVDFスプレーノズル（メモスプレー）※チップとキャップが一体型なので、位置決めが容易

その中でもプリント基板の洗浄装置に多くのノズルが納入されています。
どんな商品でしょうか？
こちらからアクセスをお願いします。

そしてこの他にプリント基板の洗浄として上げるのが超音波洗浄です。
プリント基板や部品の表面に付着した汚れを除去する方法で微細な隙間に効果的に浸透して洗浄をする為に使われます。

特にソノシス社の超音波洗浄装置はウエハーや光学、MEMSのような部品の洗浄に最適です。

ソノシス社製超音波洗浄装置（バス・タンク式洗浄用）

超音波洗浄装置 (バス・タンク式洗浄用）
超音波洗浄装置 (枚葉洗浄）

そしてこの工程が終わった後は乾燥です。
プリント基板の乾燥方法は大きく分けて3つあります。
ヒーター乾燥、真空乾燥、そしてブロー乾燥です。
ヒーター乾燥は温風や赤外線などを熱源として水分を蒸発させる方法ですが、基板や部品の耐熱性を考慮しなければなりません。
真空乾燥方式は真空チェンバー内で真空状態にして水分を蒸発させる方法です。
簡単にいくと沸点を低くして水分を除去する方法ですが、乾燥時間が長くなります。
ブロー乾燥は圧縮空気や通常エアー、窒素などの乾燥したものを使って基板の表面から水分や洗浄液を飛ばす方式です。
この方法は比較的早く乾燥させる事が出来ますが、エアーノズルやエアーナイフから吐出される圧力、風量が適切でなければなりません。

弊社は最後にご紹介しましたブロー乾燥用のシステムをご紹介します。
ソニック社は元々コンベヤーから流れてくる商品の水滴除去を目的として作られた会社であり、多くの実績があります。

ソニック社プリント基板乾燥装置（ブロワー）

その中にプリント基板の乾燥もあります。
ブロー乾燥と聞くと『圧力と風量が足りないからなぁ…』というお話も聞きますが、ソニック社のエアーパワーは一度体験された方は吃驚するほどです。

そして昨今の半導体ブームの立役者でもある台湾のブロワーメーカーを紹介させてください。
3.7kwのモーターですが、約7m3/minの風量、0.1MPaの圧力を出す事が出来るブロワーがあります。
これを既存のエアーナイフに取り付けるだけで強力ブローが可能となりました。
期間限定となりますが、テスト動画を掲載します。
こちらは日本国内の某メーカーのエアーナイフ800mm長 x 1mm幅のものです。

如何でしょうか？
弊社では洗浄するスプレーノズル、超音波洗浄装置から乾燥させるエアーナイフ、ブロワーをご用意しております。
商品に関するご質問等御座いましたら弊社スタッフまでご一報ください。