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Sonaer 超音波スプレーノズルを用いたフォトレジストコーティングについて

半導体製造工程の中でも重要な役割を果たすフォトレジストコーティング。
電子デバイスやMEMS製造には欠かせない工程です。
フォトレジストは、一般的に高分子材料で可視光への露光によって強化されます。
若しくは可溶化される（ポジティブフォトレジスト材料を介して）ポリマー材料であり、可視光は、フォトリソグラフィとして知られる技術である基板上のフォトレジストコーティングをパターン化するために使用されます。
次に、レジストコーティングされた基板は、現像剤として知られる特定の溶媒または溶液にさらされて、不要なレジスト材料を除去し、多くの場合、エッチングや他の機能性材料の基板への適用の準備をします。
ソニア社製超音波スプレーノズルは、基板の洗浄を行い、制御可能な暑さまでレジスト材を均一コーティングをさせる事が出来ます。
ソニア社製超音波スプレーノズルは、不要なレジスト材の除去、基板のエッチング、更にはデバイスへの他に必要な材料の追加に使用される溶剤または溶液のスプレーにも利用出来ます。
また、弊社では、ソニア社以外の商品として、ソノシス社の商品も提供しております。
半導体部品の洗浄超音波洗浄機、レヒラー社から受け継いだ独自の超音波スプレーノズルも合わせてご検討頂ければ幸いです。